三氯氢硅中痕量杂质的化学光谱测定主要试剂表述错误的有（）A.盐酸优级纯再经石墨熏蒸器提纯两次B.铍内标KCL载

多项选择题

三氯氢硅中痕量杂质的化学光谱测定主要试剂表述错误的有（）

A.盐酸优级纯再经石墨熏蒸器提纯两次
B.铍内标KCL载体混合溶液每毫升含铍0.1
C.封闭剂1%聚苯乙烯乙酸乙酯溶液
D.氢氟酸优级纯再经一次提纯，采用自制塑料蒸馏器，置于70℃左右的水浴中提纯，弃去前后馏分各10%